我的机构馆
退出
数字图书馆首页
CNKI首页
浏览器下载
帮助
方乾明
【姓名】
方乾明
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
单晶薄膜,金膜,外延生长,真空,单晶膜,蒸发源,沉积率,真实温度,点源,亮度温度,单晶体,单晶,金原子,衬底温度,蒸镀,金源,沟道,透射电镜,底表面,衍射斑点,
【工作单位】
浙江大学
【曾工作单位】
浙江大学;
【所在地域】
学术成果产出统计表
今年新增
/文献篇数
核心期刊论文数
基金论文数
第一作者篇数
总被引频次
总下载频次
0
/
1
0
0
0
1
86
文献数(该学者统计年度当年发文总文献数)
被引频次(该学者统计年度当年发文总被引频次)
浏览趋势(该学者统计年度当年发文总浏览频次)
下载频次(该学者统计年度当年发文总下载频次)
学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到1篇
[1]邵健中,黄民智,方乾明.
真空中外延生长金单晶薄膜
[J]真空.1983,(05)
更多
研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
李元园
复旦大学
郁瑛
复旦大学
高玉恺
哈尔滨工业大学
公锰男
中国科学院长春光学精密机械与...
富叔清
中国科学院长春光学精密机械与...
黄民智
浙江大学
更多
合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
黄民智
浙江大学
1
邵健中
浙江大学
1
更多