刘立
【姓名】 刘立
【职称】
【研究领域】 电力工业;无线电电子学;金属学及金属工艺;
【研究方向】 金属材料方向的研究
【发表文献关键词】 CVD,含硅化合物膜,SiOx膜层,化合物膜,含硅,化学气相沉积,陶瓷膜层,营销系统,附着性,配电网重构,可靠性,经济性,评估结果,PSS/A,CVD技术,线损率,低压线损,SiO_x,自动统计,功能...
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 浙江杭州
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[7]刘立,郦剑,叶必光,沈复初.铝基底上SiO_x陶瓷膜层的CVD制备及结构性能[J]浙江大学学报(工学版).2003,(01)
[8]刘立,沈复初,袁骏,叶必光,田丽,郦剑.CVD技术在制备含硅化合物膜层中的应用[J]材料科学与工程.2001,(02)
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[1]张际亮;郦剑;沃银花;刘立;.铝基硅氧化物陶瓷薄膜摩擦磨损性能研究[A].2006年中国机械工程学会年会暨中国工程院机械与运载工程学部首届年会论文集.2006-11-01
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