刘东元
【姓名】 刘东元
【职称】
【研究领域】 化学;无线电电子学;仪器仪表工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 微制备,SU-8,高深宽比,微结构,曝光剂量,光刻掩模,光胶,导电玻璃,接触式曝光法,导电性,胶层,图形转移,电沉积镍,玻璃表面,氧化铟锡,镍镀层,表面不平,玻璃基底,垂直度,涂覆,
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 杭州
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[1]吕春华;殷学锋;刘东元;方肇伦;.高深宽比SU-8微结构的简易加工技术[J]浙江大学学报(工学版).2006,(08)
[2]刘东元;.PS版毛面层技术[J]印刷技术.2003,(17)
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[1]吕春华;殷学锋;刘东元;方肇伦;.用反面曝光法加工高深宽比SU-8微结构[A].第三届全国微全分析系统学术会议论文集.2005-10-01
[2]刘东元;殷学锋;张磊;.用芯片毛细管电泳测定分子的扩散系数和检测器时间常数[A].第三届全国微全分析系统学术会议论文集.2005-10-01
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