陈志锦
【姓名】 陈志锦
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 集成电路CAD的研究
【发表文献关键词】 光刻仿真,光学邻近校正,高斯滤波器,光刻模拟,二维轮廓提取,光学邻近校正(OPC),可变阈值光刻胶模型,光刻胶,卷积核,离轴照明,光刻,深亚微米IC工艺,轮廓提取,二维成像,空间图像,可变阈值,移相掩...
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 浙江杭州
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[1]史峥,王国雄,严晓浪,陈志锦,高根生.一种基于卷积核用于光刻模拟的计算稀疏空间点光强的方法(英文)[J]半导体学报.2003,(04)
[2]王国雄,史峥,严晓浪,陈志锦,高根生,熊军.用于光刻模拟的快速计算稀疏空间点光强的方法[J]计算机辅助设计与图形学学报.2003,(07)
[3]付萍,王国雄,史峥,陈志锦,严晓浪.一种基于SPLAT的离轴照明成像算法的研究与实现[J]微电子学.2003,(03)
[4]王国雄,严晓浪,史峥,陈志锦.基于模型的光学校正系统的设计与实现[J]浙江大学学报(工学版).2004,(05)
[5]王国雄,史峥,严晓浪,陈志锦,付萍.用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型[J]浙江大学学报(工学版).2002,(06)
[6]陈志锦,史峥,王国雄,付萍,严晓浪.一种快速光刻模拟中二维成像轮廓提取的新方法[J]半导体学报.2002,(07)
[7]王国雄,史峥,付萍,陈志锦,严晓浪.一种适于快速OPC的精确光刻胶剖面仿真算法[J]微电子学.2002,(03)
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