李宏宁
【姓名】 李宏宁
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】 半导体多层膜和超晶格的特性分析和模拟计算等方面的工作
【发表文献关键词】 低角X射线衍射谱,Ge/Si多层膜,多层膜衍射,多层膜,Ge/Si,X射线,溅射,磁控,界面结构,过渡层,衍射谱,子团,过渡层厚度,互扩散,拟合,折射系数,衍射特征,子层,衍射峰,反射强度,
【工作单位】 云南大学
【曾工作单位】 云南大学;
【所在地域】 昆明
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[1]李宏宁,毛旭,杨宇.磁控溅射Ge/Si多层膜X射线低角衍射界面结构分析[J]光电子·激光.2000,(01)
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