曲风钦
【姓名】 曲风钦
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;工业通用技术及设备;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 靶长,膜厚分布,低压压敏薄膜,总压强,MC方法,PTCR特性,非线性系数(α),压敏电压(V1mA),磁控溅射器,电致变色,BaTiO_3薄膜,喷雾热分解,MonteCarlo,量子点,溅射,全固态...
【工作单位】 烟台大学
【曾工作单位】 烟台大学;
【所在地域】 烟台
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[1]黄士勇,曲风钦,戴振宏,苗晔,钟玉荣,王仲训.基片和溅射参数对CuInSe_2量子点的影响[J]固体电子学研究与进展.2004,(02)
[2]沈良,曲风钦,宋世庚.Y掺杂对BaTiO_3系半导化薄膜PTCR特性的影响[J]功能材料.2001,(01)
[3]黄士勇,曲风钦,苗晔,孟兆坤,辛志荣.WO_3电变色材料的氢化技术研究[J]功能材料.2001,(04)
[4]黄士勇,曲风钦,苗晔,孟兆坤.全固态电致变色器件工艺技术研究[J]真空科学与技术.2001,(02)
[5]贾锐,曲风钦,武光明,宋世庚,陶明德.ZnO系低压压敏薄膜的喷雾热分解法制备及膜厚对其压敏特性影响的研究[J]功能材料.1999,(06)
[6]黄士勇,曲风钦,苗晔,董维义.用MonteCarlo法模拟大型磁控溅射器的膜厚分布[J]真空电子技术.1999,(05)
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