王曦
【姓名】 王曦
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硼注入,闪烁噪声,铜膜,任意形,再分布,Radius,英文,表面粗糙度,溅射,噪声,金属膜,嗓声,金属薄膜,蓝宝石,体效应,氧化硅,VLSI,profile,结深,表面效应,表面形态,谱幅,侧向扩展,...
【工作单位】 香港大学
【曾工作单位】 香港大学;
【所在地域】
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/2 0 0 2 0 52
中国期刊全文数据库    共找到2篇
[1]王曦.任意形状掩模边缘下硼注入剖面的再分布(英文)[J]电子学报.1988,(04)
[2]王曦,郑耀宗,阮刚,王建伟.溅射铜膜的闪烁噪声和表面粗糙度的关系[J]电子学报.1990,(06)
更多