洪国光
【姓名】 洪国光
【职称】
【研究领域】 物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 Si-SiO_2,粗糙度,椭偏光,金字塔模型,界面层,介电函数,界面粗糙度,子层,反射谱,氧化膜厚度,粗糙层,反射光谱,体积分数,氧化膜,氧化时间,散射几率,复折射率,电气性能,台阶,塔高,
【工作单位】 香港大学
【曾工作单位】 香港大学;
【所在地域】
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[1]黄炳忠,余玉贞,洪国光.Si-SiO_2界面的粗糙度[J]物理学报.1987,(07)
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