冯海玉
【姓名】 冯海玉
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 光电信息技术
【发表文献关键词】 低压化学气相淀积,硅薄膜,SnO2膜,溅射功率,氮化,基片温度,溅射,LPCVD,二氧化锡,靶材,溅射工艺,SnO2,分子泵,制备工艺,气敏材料,粒子,吸附原子,超声波清洗,溅射薄膜,温度,低真空阀,...
【工作单位】 厦门大学
【曾工作单位】 厦门大学;
【所在地域】 福建厦门
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[1]冯海玉,黄元庆,冯勇建.二氧化锡溅射工艺研究[J]微纳电子技术.2003,(Z1)
[2]冯海玉,黄元庆,冯勇健.LPCVD氮化硅薄膜的制备工艺[J]厦门大学学报(自然科学版).2004,(S1)
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