何瑞延
【姓名】 何瑞延
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 阵列电极,有机涂层,铁电极,离子介质,涂层,界面腐蚀,金属腐蚀,电位分布图,电极表面,电位分布,破裂点,中涂层,阵列,破裂位置,硝基清漆,电极界面,负电位,腐蚀界面,金属界面,中国腐蚀与防护学报,
【工作单位】 厦门大学
【曾工作单位】 厦门大学;
【所在地域】
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[1]胡荣宗,林昌健,何瑞延,谭建光.用阵列电极研究不同阴离子介质中有机涂层/铁电极界面腐蚀行为[J]厦门大学学报(自然科学版).1997,(06)
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