W Y Cheung
【姓名】 W Y Cheung
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 GaAsSiO2纳米颗粒镶嵌薄膜,激光Z扫描,射频磁控共溅射,镶嵌薄膜,射频磁控,GaAs/Si,共溅射,光谱,光学性,纳米颗粒,激光光谱,超快,复合膜,激子,PL谱,国家重点实验室,五邑大学,光学非...
【工作单位】 香港中文大学
【曾工作单位】 香港中文大学;
【所在地域】 新界
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[1]丁瑞钦,王浩,于英敏,王宁娟,佘卫龙,李润华,丘志仁,罗莉,蔡志岗,W Y Cheung,S P Wong.射频磁控共溅射GaAs/SiO_2纳米颗粒镶嵌薄膜的光学性质[J]物理学报.2002,(04)
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