郑宣
【姓名】 郑宣
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;工业通用技术及设备;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 金属污染,铜沉积,体硅,半导,污染机理,片金,微观,硅表面,Cu2＋,少子寿命,污染,TXRF,研究进展,铜污染,直流极化,子型,p型Si,硅抛光片,Si表面,铜的沉积,
【工作单位】 厦门大学
【曾工作单位】 厦门大学;
【所在地域】 福建厦门
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[1]郑宣,程璇.半导体硅片金属微观污染机理研究进展[J]半导体技术.2004,(08)
[2]郑宣,程璇.微量铜-铁对硅片表面污染的初步分析[J]半导体学报.2005,(05)
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[1]程璇;刘海帆;吕京美;陈永菁;郑宣;.溶液中微量金属对硅片表面污染的交流阻抗表征[A].第十三次全国电化学会议论文摘要集（下集）.2005-11-01
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