刘柱方
【姓名】 刘柱方
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;无线电电子学;
【研究方向】 电化学微纳米加工方面的研究工作
【发表文献关键词】 金属,刻蚀,约束刻蚀剂层技术,约束刻蚀剂层技术(CELT),电化学刻蚀,微图形,Cu,加工,三维微加工,化学刻蚀,金属铜,微加工,刻蚀剂,金属Cu,物理化,捕捉剂,微区,电化学,固体表面,厦门大学,H...
【工作单位】 厦门大学
【曾工作单位】 厦门大学;
【所在地域】 福建厦门
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[1]刘柱方,蒋利民,汤儆,张力,田昭武,刘品宽,曲东升,孙立宁,叶雄英,周兆英,田中群.金属Cu表面三维齿状微图形的复制加工——约束刻蚀剂层技术 (CELT)的应用[J]微纳电子技术.2003,(Z1)
[2]刘柱方,蒋利民,汤儆,刘品宽,孙立宁,田中群,田昭武.金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工[J]应用化学.2004,(03)
[3]蒋利民,田中群,刘柱方,毛秉伟,黄海苟,孙建军.金属的电化学微区刻蚀方法[J]电化学.2002,(02)
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