刘品宽
【姓名】 刘品宽
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 加工,Cu,微图形,约束刻蚀剂层技术,金属Cu,物理化,固体表面,重点实验室,厦门大学,福建厦门,三维微结构,化学系,精密仪器,刻蚀剂,哈尔滨工业大学,困难和对策,材料微结构,微系统技术,刻蚀时间,结...
【工作单位】 厦门大学
【曾工作单位】 厦门大学;
【所在地域】 福建厦门
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[1]刘柱方,蒋利民,汤儆,张力,田昭武,刘品宽,曲东升,孙立宁,叶雄英,周兆英,田中群.金属Cu表面三维齿状微图形的复制加工——约束刻蚀剂层技术 (CELT)的应用[J]微纳电子技术.2003,(Z1)
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