谷新
【姓名】 谷新
【职称】
【研究领域】 无机化工;化学;电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 化学镀铜,活化,化学粗化,前处理工艺,混合电位,活化工艺,化学镀,峰电流值,新生铜,陶瓷,络合剂,胶体钯,诱发时间,Na2EDTA,添加剂,表面化学镀,陶瓷基体,Cu2+,铜基体,极化,钯,PdCl2...
【工作单位】 厦门大学
【曾工作单位】 厦门大学;
【所在地域】 福建厦门
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[1]谷新,王周成,林昌健.陶瓷表面化学镀的前处理工艺新进展[J]材料保护.2003,(09)
[2]谷新,胡光辉,王周成,林昌健.化学镀铜过程混合电位本质的研究[J]物理化学学报.2004,(02)
[3]谷新,王周成,林昌健.络合剂和添加剂对化学镀铜影响的电化学研究[J]电化学.2004,(01)
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