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张茂国
【姓名】
张茂国
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
磁控溅射法,二硅化钼,薄膜结构,电阻率,方阻,基体,磁控溅射,MoSi2薄膜,钼薄膜,电学性能,表面形貌,性能表征,溅射气压,原子力显微镜,氧化铝基,基底温度,退火过程,退火温度,四探针,性能分析,沉...
【工作单位】
西安交通大学
【曾工作单位】
西安交通大学;
【所在地域】
陕西西安
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共找到2篇
[1]信绍广;徐可为;陈华;张茂国;.
基体对硅钼薄膜结构及电学性能的影响
[J]稀有金属材料与工程.2006,(03)
[2]张茂国,陈华.
磁控溅射法制备硅钼薄膜及其性能表征
[J]稀有金属材料与工程.2005,(07)
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
陈华
西安交通大学
2
信绍广
西安交通大学
1
徐可为
西安交通大学
1
更多
该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
赵特秀
中国科学技术大学
2
王晓平
中国科学技术大学
2
叶坚
中国科学技术大学
2
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中国科学院等离子体物理研...
2
刘磁辉
中国科学技术大学
2
季航
中国科学技术大学
2
梁齐
中国科学技术大学
2
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