潘永强
【姓名】 潘永强
【职称】 讲师;
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】 薄膜工艺与等离子体技术的研究
【发表文献关键词】 霍尔无栅离子源,离子束性能,端部霍尔离子源,光学塑料,TiO2薄膜,离子束辅助沉积,薄膜,附着力,光学薄膜,离子束,离子源,电子束蒸发,真空镀膜,等离子体,折射率,离子束辅助,减反射膜,辅助沉积,等离...
【工作单位】 西安工业学院
【曾工作单位】 西安工业学院;
【所在地域】 西安
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[1]潘永强,朱昌,陈智利,杭凌侠.端部霍尔离子源工作特性及等离子体特性研究[J]真空科学与技术.2003,(01)
[2]潘永强,卢进军,万菁昱.光学塑料真空镀膜附着力机理与工艺研究[J]应用光学.2003,(03)
[3]潘永强,朱昌,弥谦,宋俊杰.电子束蒸发TiO_2薄膜的光学特性[J]应用光学.2004,(05)
[4]潘永强,朱昌,杭凌侠,苏俊宏.硒化锌基底8μm～12μm高效高稳定性减反射膜的研究[J]红外.2004,(10)
[5]潘永强,朱昌,杭凌侠,宋俊杰.锗基底3～5μm和8～12μm双波段红外增透膜研究[J]激光与红外.2004,(05)
[6]潘永强,朱昌,方勇,斯瓦德科夫斯基,达斯坦科.用于离子束辅助镀膜的两种模式端部霍尔离子源的比较[J]真空.2004,(05)
[7]潘永强,朱昌.硒化锌基底8～12μm高性能增透膜的研究[J]红外与激光工程.2005,(04)
[8]潘永强,卢进军,宋俊杰,方勇.电焊护目诱导透射滤光片的研究[J]激光与红外.2005,(09)
[9]潘永强,朱昌,杭凌侠.锗基底7~11.5μm高性能红外宽带减反射膜的研究[J]应用光学.2005,(06)
[10]朱昌,潘永强,方勇.端部中空离子源的磁路研究[J]真空.2005,(06)
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