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干煜军
【姓名】
干煜军
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
铁电薄膜,界面,异质结效应,底电极,异质结,电滞回线,疲劳循环,间界,界面层,PLZT薄膜,Pt电极,线中心,U特性,偏移度,缺陷半导体,偏移,硅衬底,外加电场,外加电压,内偏,
【工作单位】
武汉邮电科学研究院
【曾工作单位】
武汉邮电科学研究院;
【所在地域】
武汉
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共找到1篇
[1]黄龙波,刘殊松,龙浩,干煜军.
铁电薄膜与底电极之间界面的异质结效应
[J]真空科学与技术.1997,(04)
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