胡江峰
【姓名】 胡江峰
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 介质保护膜,放电特性,保护膜材料,ACPDP,着火电压,ACPDP放电特性,保护膜,二次电子,老化特性,制备参数,发射系数,工艺参数,维持电压,实验研,膜料,真空,混合氧化物,俄歇,发射过程,稳态值,...
【工作单位】 西安交通大学
【曾工作单位】 西安交通大学;
【所在地域】 西安
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[1]任红霞,胡江峰,张军凯,郑德修.介质保护膜制备参数对AC PDP放电特性的影响[J]真空科学与技术.1999,(04)
[2]任红霞,胡江峰,郑德修,孙鉴.保护膜材料对ACPDP放电特性影响的实验研究[J]真空科学与技术.1999,(06)
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