杭凌侠
【姓名】 杭凌侠
【职称】 副教授;高级工程师;
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】 光学薄膜与检测技术研究
【发表文献关键词】 工作气压,沉积速率,磁控溅射(MS),非平衡磁控溅射(UBMS),溅射,镀膜,磁控,靶-基距,磁控溅射,离子束流密度,减反射膜,离子束,膜厚均匀性,厚度均匀性,溅射速率,流密度,辅助沉积,红外,增透膜...
【工作单位】 西安工业学院
【曾工作单位】 西安工业学院;
【所在地域】 西安
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[3]李刚;蔡长龙;杭凌侠;严一心;.脉冲真空电弧离子源工艺参数对薄膜厚度分布的影响[A].中国真空学会五届三次理事会暨学术会议论文集.2002-12-01
[4]严一心;朱昌;杭凌侠;弥谦;蔡长龙;徐均琪;吴玲玲;.脉冲电弧蒸发源的研究[A].TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2003-09-01
[5]严一心;朱昌;杭凌侠;弥谦;蔡长龙;徐均琪;吴玲玲;.脉冲电弧蒸发源的研究[A].薄膜技术学术研讨会论文集.2004-06-30
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