周树青
【姓名】 周树青
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 PCVD法,渗硅,涂硅,6.5%Si,磁性能,动力学,动力学问题,增硅,PCVD,粒子,涂层厚度,溅射,平均自由程,子体,冶金学,科技大学,等离子体,硅钢片,粒子碰撞,Si含量,
【工作单位】 武汉科技大学
【曾工作单位】 武汉科技大学;
【所在地域】 湖北武汉
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[1]王蕾,周树青,吴新杰,李平生,高莹,陈大凯.PCVD法渗6.5%Si的动力学问题研究[J]武汉科技大学学报(自然科学版).2000,(04)
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