余卫华
【姓名】 余卫华
【职称】
【研究领域】 化学;工业通用技术及设备;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 微波等离子化学气相沉积,透明金刚石膜,金刚石涂层刀具,氮化硅,干切,单晶硅基片,金刚石涂层,WC-Co刀具,金刚石膜涂层,Si_3N_4基底,化学气相沉积,微波等离子CVD,微波等离子,微波等离子体,...
【工作单位】 武汉工业大学
【曾工作单位】 武汉工业大学;
【所在地域】 武汉
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[1]周健,余卫华,汪建华,袁润章.微波等离子体化学气相沉积工艺对透明金刚石膜质量的影响[J]硅酸盐学报.2000,(05)
[2]周健,袁润章,余卫华,汪建华,刘桂珍.微波等离子化学气相沉积金刚石膜涂层氮化硅刀具(英文)[J]人工晶体学报.2000,(03)
[3]周健,袁润章,汪建华,余卫华,刘桂珍.Si_3N_4刀具基底预处理对MPCVD金刚石涂层质量的影响[J]中国有色金属学报.2000,(05)
[4]刘泉,周健,余卫华,刘桂珍.WC-8.0%Co基底上微波等离子化学气相沉积金刚石膜[J]中国有色金属学报.2001,(01)
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