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王新祥
【姓名】
王新祥
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
纳米晶材料,晶粒生长,氮化钛,等离子体,团聚体,晶粒尺寸,固体材料,平均晶粒度,氮等离子体,纳米粒子,原位加,纳米晶,密度,凝聚法,晶粒长大,显微结构,大气孔,相含量,纳米,过饱和比,
【工作单位】
武汉工业大学
【曾工作单位】
武汉工业大学;
【所在地域】
武汉
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共找到2篇
[1]曹立宏,欧阳世翕,王胜军,王新祥,时东霞.
TiN纳米晶材料烧结规律研究
[J]材料科学与工程.1994,(03)
[2]欧阳世翕;程吉平;王新祥;陈丹平;叶能;.
微波等离子体CVD法制备β-SiC薄膜
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