刘文军
【姓名】 刘文军
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;电力工业;
【研究方向】 薄膜工艺方面的研究工作
【发表文献关键词】 端部霍尔离子源,低频,冷阴极,宽束,逻辑器件,基于单片机,数字相,绝对误差,测量仪,辅助沉积,可编程,离子源,光学薄膜,离子束,AT89C5,单片机,集成电路,透过率,行频率,霍尔无栅离子源,单片机开...
【工作单位】 西安工业学院
【曾工作单位】 西安工业学院;
【所在地域】 陕西西安
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[1]刘文军,弥谦,秦君君,方勇,杨利红.宽束冷阴极和端部霍尔离子源对薄膜透过率和应力的影响[J]应用光学.2005,(02)
[2]史国清,倪晋平,刘文军.基于单片机的低频数字相位测量仪的设计[J]现代电子技术.2005,(08)
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