陈伟
【姓名】 陈伟
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 靶基距,非平衡磁控溅射,溅射模式,磁控,膜厚均匀性,磁控溅射,均匀性,溅射,膜厚分布,非平衡,附加励磁,科学与工程,溅射薄膜,线圈电流,陕西西安,磁场分布,薄膜技术,西安,薄膜厚度,调制磁场,
【工作单位】 西安工业学院
【曾工作单位】 西安工业学院;
【所在地域】 陕西西安
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[1]惠迎雪,杭凌侠,徐均琪,陈伟.不同磁控溅射模式膜厚均匀性研究[J]西安工业学院学报.2003,(01)
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