赵利
【姓名】 赵利
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光学薄膜,膜系设计,评价函数,膜系,单纯形法,X射线,电子束反应蒸发,调优法,多层膜,研究及发展,研究进展,单纯形,自动设计,电子束蒸发,包络线法,TiO2薄膜,多层膜系,类金刚石膜,TiO2,膜系自...
【工作单位】 武汉理工大学
【曾工作单位】 武汉理工大学;
【所在地域】 湖北武汉
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[1]夏志林,薛亦渝,赵利,张幼陵.基于包络线法的薄膜光学常数分析[J]武汉理工大学学报(信息与管理工程版).2003,(05)
[2]王学华,薛亦渝,赵利,张幼陵.新型光学薄膜研究及发展现状[J]武汉理工大学学报.2002,(02)
[3]王学华,薛亦渝,赵利,张幼陵.电子束蒸发沉积TiO_2薄膜结构及光学性能的研究[J]武汉理工大学学报.2002,(11)
[4]赵利,薛亦渝,王学华,张幼陵.膜系自动设计中的几种新型评价函数[J]武汉理工大学学报(信息与管理工程版).2002,(05)
[5]王学华,薛亦渝,赵利,张幼陵.单纯形调优法在多层膜系优化设计中的应用[J]武汉理工大学学报(信息与管理工程版).2002,(05)
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