韩庆荣
【姓名】 韩庆荣
【职称】
【研究领域】 电信技术;金属学及金属工艺;无机化工;
【研究方向】 石英单模光纤中的材料组成、结构和性能的优化研究
【发表文献关键词】 生物陶瓷涂层,电沉积,电泳沉积,生物活性梯度陶瓷涂层,控制参数,低水峰,光纤,生物玻璃,材料,制备工艺,PCVD单模光纤,材料组成和结构,功能梯度,粘度匹配,生物活性陶瓷,涂层技术,钛合金,电化学沉积...
【工作单位】 武汉理工大学
【曾工作单位】 武汉理工大学;
【所在地域】 武汉
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[1]韩庆荣,赵修建,谢康,罗杰.PCVD单模光纤中的材料组成和结构设计[J]邮电设计技术.2005,(06)
[2]韩庆荣,谢康,张树强,罗杰.全贝低水峰光纤的结构和性能[J]电信科学.2005,(09)
[3]韩庆荣,陈晓明.电沉积生物活性陶瓷涂层技术[J]材料工程.2001,(03)
[4]陈晓明,李世普,韩庆荣,周学东,许传波.在非水溶液体系中电泳沉积Ti6Al4V/BG/HA梯度涂层[J]硅酸盐学报.2001,(06)
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[1]韩庆荣.PCVD单模光纤的材料组成、结构与性能研究[D].武汉理工大学.2006
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[1]陈晓明;韩庆荣;许传波;黄志红;.生物活性陶瓷涂层的制备研究[A].2000年材料科学与工程新进展（上）——2000年中国材料研讨会论文集.2000-06-30
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