曾志锋
【姓名】 曾志锋
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 铂,富积,表面形貌,二氧化钛,TiO_2薄膜,射频溅射,基本性,法制,TiO2薄膜,吸收带边,物理科学,技术学院,薄膜表面,铂氧化物,波方向,微米尺寸,红移,石相,湖北武汉,TiO2,
【工作单位】 武汉大学
【曾工作单位】 武汉大学;
【所在地域】 湖北武汉
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[1]何永华,于国萍,魏正和,曾志锋.射频溅射法制备掺铂TiO_2薄膜的基本性质[J]武汉大学学报(理学版).2004,(01)
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