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何新明
【姓名】
何新明
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
Si薄膜,离子束辅助,沉积法,离子束,辅助沉积,离子轰击,Si膜,吸附强度,Ag膜,预清洗,薄膜吸附,底表面,薄膜沉积,真空沉积,溅射,拉脱法,离子电荷,真空蒸发,薄膜外延,D方法,
【工作单位】
武汉大学
【曾工作单位】
武汉大学;
【所在地域】
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共找到1篇
[1]潘显政,何新明,王滨,章利球.
离子束辅助沉积(IVD)方法制备Ag/Si薄膜
[J]核技术.1987,(01)
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