陈甲林
【姓名】 陈甲林
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;材料科学;
【研究方向】 光电功能薄膜研究
【发表文献关键词】 直流磁控,锑掺杂,光学带隙,钠钙硅玻璃,反应溅射,二氧化锡薄膜,热处理温度,紫外-可见光,SiO_2膜,溶胶-凝胶,玻璃基片,SnO_2,溶胶-凝胶法,谱仪,带隙,SiO2膜,薄膜光学,溅射功率,氧气...
【工作单位】 武汉理工大学
【曾工作单位】 武汉理工大学;
【所在地域】 湖北武汉
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[1]陈甲林,张君,赵青南.直流磁控反应溅射工艺参数对SnO_2:Sb薄膜光学带隙的影响[J]河南建材.2004,(04)
[2]张君,赵青南,陈甲林,赵修建.镀SiO_2膜玻璃基片上SnO_2∶Sb薄膜的溶胶-凝胶法制备及表征[J]硅酸盐学报.2005,(05)
[3]陈甲林,赵青南,张君.射频磁控溅射法制备SnO_2∶Sb透明导电薄膜的光电性能研究[J]液晶与显示.2005,(05)
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