刘石柱
【姓名】 刘石柱
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 非晶碳膜,射频等离子体,单晶硅衬底,负偏压,碳膜电阻,分压比,射频功率,沉积条件,放电室,电阻率,苯蒸气,碳离子束,离子轰击,物理性,类金刚石膜,射频辉光放电,离子束,气压,n型,单晶硅,
【工作单位】 武汉大学
【曾工作单位】 武汉大学;
【所在地域】
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[1]程世昌,张辉,刘石柱,凌高宏.射频等离子体法在单晶硅衬底上形成的非晶碳膜及其性质[J]核技术.1987,(01)
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