胡国俊
【姓名】 胡国俊
【职称】
【研究领域】 化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 痕量锰,莼菜,微分电位溶出,微分电位溶出法,敏度,底液,汉化,电解,峰电位,旋转电极,测定锰,节酸,上下限,镀汞液,搅拌时间,电解池,AAS法,硼酸,电位,工学院,
【工作单位】 武汉化工学院
【曾工作单位】 武汉化工学院;
【所在地域】 武汉
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[1]张平,胡国俊,邹青,余世鑫.莼菜中痕量锰的微分电位溶出法测定[J]理化检验(化学分册).1998,(06)
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