毛先唯
【姓名】 毛先唯
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氮化碳,C_3N_4,复合膜,栅极电压,溅射,反应磁控溅射,中弱,晶化,衍射峰,微结构,非平衡磁场,碳薄膜,衍射图像,级电压,晶面间距,离子镀,结晶相,石墨相,晶化作用,立方相,
【工作单位】 武汉大学
【曾工作单位】 武汉大学;
【所在地域】
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[1]吴大维,付德君,毛先唯,叶明生,彭友贵,范湘军.C_3N_4/TiN交替复合膜的微结构研究[J]物理学报.1999,(05)
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