候立
【姓名】 候立
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 CVD金刚石膜,压电薄膜,激光超声,金刚石膜,声脉冲,反射回波,直达波法,声学特性,纵波声速,激光,声时,激光超声法,声时差,声速,金刚石,表面波速,耦合层,强激发,超声波,各向同性媒质,
【工作单位】 同济大学
【曾工作单位】 同济大学;
【所在地域】
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[1]潘永东,钱梦录,刘尔凯,候立.CVD金刚石膜声学特性的激光超声研究[J]人工晶体学报.1997,(Z1)
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