朱学明
【姓名】 朱学明
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;自动化技术;电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 电容层析成像,电阻抗成像,图像重建,遗传算法,低通滤波器,神经网络,电容层析,阵列电极,优化设计,灵敏度矩阵,RBF网络,有限元法,正则化,共轭,电阻抗,不适定性问题,L曲线法,优化设,梯度法,电容成...
【工作单位】 天津大学
【曾工作单位】 天津大学;
【所在地域】 天津
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[1]王化祥;何永勃;朱学明;.基于L曲线法的电容层析成像正则化参数优化[J]天津大学学报.2006,(03)
[2]王化祥,张立峰,朱学明.电容层析成像系统阵列电极的优化设计[J]天津大学学报.2003,(03)
[3]朱学明,王化祥,张立峰.低通滤波器对电容成像系统实时性影响研究[J]仪器仪表学报.2004,(06)
[4]王化祥,朱学明,张立峰.用于电容层析成像技术的共轭梯度算法[J]天津大学学报.2005,(01)
[5]朱学明,王化祥,何世钧,南国芳.基于RBF网络和遗传算法的电阻抗图像重建算法[J]天津大学学报.2002,(06)
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[1]朱学明.齿轮副零侧隙的实现及可控性研究[D].天津大学.2010
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