孙大智
【姓名】 孙大智
【职称】 助理实验师;
【研究领域】 工业通用技术及设备;材料科学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 多层薄膜结构,厚度测量,Monte Carlo方法,计算机模拟,薄膜生长,分形,多层膜结构,薄膜厚度,粒子,新方法,吸附原子,空气隙,传感头,电极直径,电容测微原理,生长过程,步数,衬底温度,生长形貌...
【工作单位】 天津理工大学
【曾工作单位】 天津理工大学;
【所在地域】 天津
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[2]熊瑛;杨保和;吴小国;孙大智;李明;洪松;.H_2-O_2混合气氛刻蚀制备金刚石纳米晶薄膜[J]光电子·激光.2006,(07)
[3]李化鹏;孙大智;于春花;陈希明;杨保和;.溅射沉积温度对薄膜生长影响的计算机模拟[J]天津理工大学学报.2007,(03)
[4]吴小国;熊瑛;杨保和;李翠平;孙大智;李晓伟;.金刚石/硅复合膜的导热特性研究[J]光电子.激光.2007,(08)
[5]李明吉;杨保和;孙大智;吕宪义;金曾孙;.氮掺杂金刚石膜的生长特性[J]半导体学报.2008,(06)
[6]孙大智;熊瑛;杨晓萍;.射频磁控溅射法LiNbO_3薄膜的制备及其影响因素研究[J]天津理工大学学报.2008,(04)
[7]陈希明,马靖,徐晟,吴小国,孙大智,杨保和.测量多层膜结构中薄膜厚度的一种新方法[J]光电子·激光.2005,(04)
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