邱继军
【姓名】 邱继军
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;电力工业;化学;
【研究方向】 能源材料
【发表文献关键词】 连续离子层吸附反应法,硫化锌镉薄膜,沉积,离子层,太阳能电池,Cu2+,p型,铜薄膜,电化学沉积,气相反应法,硫氰酸,吸附层,前驱体,纳米晶,光电池,吸附反应,CN薄膜,薄膜太阳能电池,气相反应,半导...
【工作单位】 天津大学
【曾工作单位】 天津大学;
【所在地域】 天津
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[2]钱进文;靳正国;邱继军;刘志锋;.离子层气相反应法制备CuInS_2半导体薄膜(英文)[J]硅酸盐学报.2006,(08)
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[4]武卫兵,靳正国,华缜,邱继军.p型CuSCN半导体薄膜电沉积特征的研究[J]硅酸盐学报.2004,(09)
[5]李巍,葛志平,刘志锋,杨建立,邱继军,靳正国.溶胶-凝胶法制备ZnO多孔薄膜[J]硅酸盐学报.2005,(06)
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[7]邱继军,靳正国,武卫兵,刘晓新,程志捷.ILGAR法制备CdS薄膜新工艺的研究[J]太阳能学报.2005,(03)
[8]邱继军,靳正国,石勇,武卫兵,程志捷.浸渍离子层气相反应法制备CuInS_2薄膜[J]硅酸盐学报.2005,(01)
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[10]邱继军,靳正国,钱进文,石勇,武卫兵.离子层气相反应法(ILGAR)制备CuInS_2薄膜的研究[J]无机化学学报.2005,(03)
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[1]邱继军;靳正国;钱进文;石勇;.ILGAR法CuInS_2薄膜制备中的化学计量控制[A].第十三届全国高技术陶瓷学术年会摘要集.2004-10-14
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