那木吉拉图
【姓名】 那木吉拉图
【职称】
【研究领域】 物理学;化学;材料科学;
【研究方向】 光电子材料
【发表文献关键词】 LiCaAlF6晶体,引上法,有效分凝系数,氟化钇锂晶体,激光晶体,氟氧化合物,稀土离子,晶体生长,Colquiriite结构晶体,LiM(M=Ca,Sr)AlF6,引上法晶体生长,生长气氛,LiYF...
【工作单位】 天津大学
【曾工作单位】 天津大学;
【所在地域】 北京华北
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[1]那木吉拉图,袁兵,阮永丰,袁静.稀土离子在LiYF_4晶体中的有效分凝系数[J]硅酸盐学报.2001,(06)
[2]那木吉拉图,徐学珍,阮永丰.高质量LiCaAlF_6晶体生长条件的探索[J]人工晶体学报.2001,(03)
[3]袁静,阮永丰,那木吉拉图,杜天敏.在Ar与CF_4混合气氛中生长LiYF_4晶体[J]激光技术.2002,(06)
[4]那木吉拉图,李京民,袁静,阮永丰.Ce∶LiM(M=Ca,Sr)A1F_6晶体生长与性能研究[J]中国激光.2002,(03)
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