安贺松
【姓名】 安贺松
【职称】
【研究领域】 化学;无机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 铜铟硫薄膜,连续离子层吸附反应法,化学计量组成,前驱体,化学组成,表面颗粒,热处理,表面形貌,工艺流程,先进陶瓷,配比,加工技术,双电层模型,热解,黄铜矿结构,材料学,阳离子,天津大学,制备方法,禁带...
【工作单位】 天津大学
【曾工作单位】 天津大学;
【所在地域】 天津
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[1]石勇,靳正国,李春艳,安贺松,邱继军.SILAR法制备化学计量CuInS_2薄膜[J]无机化学学报.2005,(09)
[2]杨建立,靳正国,石勇,李春艳,安贺松.热处理对SILAR法制备CuInSe_2薄膜性能的影响[J]无机化学学报.2005,(11)
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