孔华
【姓名】 孔华
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 等离子体刻蚀
【发表文献关键词】 刻蚀速率,感应耦合等离子体,法拉第筒,归一化,碳氟聚合物,CF_4,Ar等离子体,离子入射角,角对,入射,离子能量,余弦曲线,片架,倾角,表面倾斜,直角度,反应离子,物理科学,产额,石英基片,
【工作单位】 苏州大学
【曾工作单位】 苏州大学;
【所在地域】 苏州
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[1]孔华,辛煜,黄松,宁兆元.CF_4/Ar等离子体刻蚀中入射角对SiO_2刻蚀速率的影响[J]功能材料与器件学报.2004,(03)
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