张庆坤
【姓名】 张庆坤
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅片清洗,清洗工艺,润湿性,高纯水,氢氟酸,RCA清洗,氟酸,稀溶液,接触角,硅氧化物,新型清洗剂,清洗剂,残液,H2O2,不同价态,硅的吸收,酸碱清洗,洗硅,大学物理学,子学,
【工作单位】 山东大学
【曾工作单位】 山东大学;
【所在地域】 山东济南
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[1]曹宝成,于新好,马洪磊,张庆坤.氢氟酸在新型清洗工艺中的作用[J]半导体技术.2002,(07)
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