王公堂
【姓名】 王公堂
【职称】
【研究领域】 物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 激光退火,硅薄膜,非晶膜,非晶,晶化,激光功率,入射功率,激光,打点式,室温电导率,平均晶粒尺寸,扫描速度,多晶化,晶化速率,特征衍射峰,表面温度,照射时间,预热电炉,衍射谱,分样,
【工作单位】 山东大学
【曾工作单位】 山东大学;
【所在地域】
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[1]王青圃,杨旭东,赵圣之,王公堂,程兴奎,岳书彬.掺钇非晶硅薄膜的激光退火[J]激光杂志.1989,(01)
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