宫瑞敏
【姓名】 宫瑞敏
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;一般化学工业;有机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 TiO_2薄膜,MOCVD生长,光电性能,季铵化合物,聚硅氧烷,MOCVD,有机硅,衬底温度,流动改善剂,整理剂,硅单晶,表面活性剂,聚醚,阳离子表面活性剂,抑泡剂,防滑剂,山东大学,硅氧烷表面活性剂...
【工作单位】 山东大学
【曾工作单位】 山东大学;
【所在地域】 济南
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[2]李干佐,肖洪地,刘少杰,宫瑞敏.硅氧烷表面活性剂(Ⅳ)(续3)涂料添加剂[J]日用化学工业.1998,(04)
[3]刘少杰,史晓华,李干佐,宫瑞敏,徐力.有机硅季铵化合物的应用前景[J]有机硅材料及应用.1998,(04)
[4]罗文秀,安新跃,宫瑞敏,张佩显.TiO_2薄膜的MOCVD生长[J]人工晶体.1985,(Z1)
[5]罗文秀,安新跃,宫瑞敏,淳于宝珠,刘俊福,张佩显.MOCVD生长的TiO_2薄膜的结构和光电性能[J]人工晶体.1985,(Z1)
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