黄松
【姓名】 黄松
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】 聚氨酯改性方面的研究
【发表文献关键词】 氟化非晶碳薄膜,x射线光电子能谱,ECR-CVD,傅里叶变换红外光谱,非晶氮化硅薄膜,a-C∶F薄膜,氟化非晶碳氢薄膜,CHF3,电子回旋共振放电等离子体,微波输入功率,红外吸收光谱,感应耦合等离子体...
【工作单位】 苏州大学
【曾工作单位】 苏州大学;
【所在地域】 苏州
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[1]黄松;陈国强;李战雄;.水性含氟聚氨酯的合成及其膜性能的研究[J]印染助剂.2007,(10)
[2]许圣华,辛煜,宁兆元,程珊华,黄松,陆新华,项苏留,陈军.ECR-CVD制备的非晶SiO_xN_y薄膜的光致蓝光发射[J]物理学报.2003,(05)
[3]杜伟,程珊华,宁兆元,叶超,辛煜,黄松.流量比对等离子体基团分布和薄膜结构的影响[J]功能材料与器件学报.2003,(02)
[4]狄小莲,辛煜,黄松.氟化非晶碳氢薄膜的红外结构及其电学特性[J]苏州大学学报(自然科学版).2003,(04)
[5]辛煜,许圣华,宁兆元,陈军,陆新华,项苏留,黄松,杜伟,程珊华.Infrared and Optical Properties of Amorphous Fluorinated Hydrocarbon Films Deposited with the Method of ECR Plasma[J]Plasma Science & Technology.2004,(03)
[6]孔华,辛煜,黄松,宁兆元.CF_4/Ar等离子体刻蚀中入射角对SiO_2刻蚀速率的影响[J]功能材料与器件学报.2004,(03)
[7]黄松,宁兆元,辛煜,甘肇强.CF_4气体ICP等离子体中的双温电子特性[J]物理学报.2004,(10)
[8]辛煜,宁兆元,叶超,许圣华,甘肇强,黄松,陈军,狄小莲.HfO_2在CHF_3,Ar和H_2的感应耦合等离子体中的刻蚀行为[J]真空科学与技术学报.2004,(04)
[9]黄松,辛煜,宁兆元.A Study on Optical Emission of CF_4+CH_4 Plasma and Deposition Mechanisms of a-C : F, H Films[J]Plasma Science & Technology.2005,(01)
[10]黄松,辛煜,宁兆元.使用发射光谱对感应耦合CF_4/CH_4等离子体中C_2基团形成机理的研究[J]物理学报.2005,(04)
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[2]黄松.水性含氟聚氨酯的合成及膜性能的研究[D].苏州大学.2007
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[1]宁兆元;程珊华;叶超;辛煜;江美福;黄松;.低介电常数薄膜沉积和性质的研究[A].中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议论文摘要集.2004-11-01
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