N.Yoshida
【姓名】 N.Yoshida
【职称】
【研究领域】 核科学技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 垂直位移事件,腐蚀产物,热腐蚀,碳基材料,电子束轰击,高能脉冲,入射电流,粒子发射,C/C复合材料,高纯钨,钨涂层,收集板,重量损失,Si板,沉积区,电子束,能量密度,靶测量,子体,涂层,
【工作单位】 日本九州大学
【曾工作单位】 日本九州大学;
【所在地域】
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[1]N.Yoshida,N.Noda,刘翔 ,张斧 ,许增裕 ,刘永.钨和碳基材料在高能脉冲电子束轰击下的腐蚀和腐蚀产物[J]中国核科技报告.2002,(00)
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