T.Hata
【姓名】 T.Hata
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 ZnO薄膜,直流反应磁控溅射,电子束电流,沉积速率,溅射,磁力线,螺线管线圈,溅射系统,漏磁,力线,磁体,磁控,钟罩,金属靶,磁控溅射,氧压,学工,玻璃基片,射电,氧化锌薄膜,
【工作单位】 日本金泽大学
【曾工作单位】 日本金泽大学;
【所在地域】
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[1]T.Hata,T.Minamikawa,O.Morimoto,T.Hada,余承杰.直流反应磁控溅射ZnO薄膜[J]压电与声光.1980,(06)
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