岳宏达
【姓名】 岳宏达
【职称】
【研究领域】 计算机硬件技术;一般化学工业;
【研究方向】 光信息存储及高密度可写光盘工艺的研究
【发表文献关键词】 染料工艺,CD—R,染料旋涂,中试过程,调制码,染料,曲线模型,多层光盘,jitter允差,锁相环(PLL),游程长度受限码(RLL),光密度,旋涂,游程长度,盘片,可记录光盘,旋涂工艺,光盘,溶剂挥...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]岳宏达,潘龙法,王文中.可记录光盘染料旋涂工艺的流动机制研究[J]力学与实践.2003,(06)
[2]岳宏达,宾月景,潘龙法,陈垦.利用光密度曲线模型研究CD—R染料旋涂工艺[J]信息记录材料.2003,(01)
[3]岳宏达,潘龙法.可写光盘光密度曲线模型的研究及应用[J]光学技术.2003,(05)
[4]岳宏达;MarkusPohlen;ThomasLange;.CD-R生产中的染料光密度闭环控制[J]记录媒体技术.2003,(02)
[5]岳宏达;Rolf Hertling;.可录光盘槽内和岸上的染料层厚度分布研究[J]记录媒体技术.2003,(02)
[6]岳宏达;.染料薄膜光学特性的仿真与研究[J]记录媒体技术.2003,(03)
[7]岳宏达;.可记录光盘CD-R染料旋涂工艺实验与分析[J]记录媒体技术.2003,(04)
[8]岳宏达;.光盘生产中的常用检测仪——电信号检测仪[J]记录媒体技术.2003,(05)
[9]岳宏达,潘龙法,徐端颐.染料旋涂工艺中的挥发和流动[J]清华大学学报(自然科学版).2004,(02)
[10]赵辉,徐端颐,岳宏达.多层光盘调制码的优化[J]清华大学学报(自然科学版).2002,(11)
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