王若楠
【姓名】 王若楠
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 原子表面电子密度,CoSi_2薄膜,应力,TFD模型,表面电子密度,本征应力,原子,离子注入,CoSi,Si基,原子半径,C原子,TFD方程,Thomas-Fermi-Dirac,热应力,内应力,注入...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]王若楠,刘继峰,冯嘉猷.C~+离子注入与CoSi_2薄膜应力的研究[J]自然科学进展.2002,(12)
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