孙志国
【姓名】 孙志国
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 基体蚀刻速率,核孔膜,重铬酸,化学蚀刻,钾浓度,聚丙烯,丙烯,硫酸浓度,蚀刻剂,蚀刻时间,数学关联式,聚丙烯薄膜,蚀刻速率,重铬酸钾,孔径,温度,聚丙烯膜,表示硫,实际孔径,数学回归,
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]孙志国,张泉荣,何向明,严玉顺.聚丙烯核孔膜化学蚀刻工艺研究[J]核技术.2002,(01)
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