史俊锋
【姓名】 史俊锋
【职称】
【研究领域】 仪器仪表工业;物理学;无线电电子学;
【研究方向】 MOEMS设计及其制造技术研究
【发表文献关键词】 微型光谱仪,灰度,微型光机电系统,谱仪,二维光子晶体,芯片系统,灰度掩模,掩模版,透明边界条件,光束传播法,光刻技术,带隙,平面波展开法,填充率,带隙结构,光刻胶,光器件,光能密度,三维表面,透射率,...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]黄声野;史俊锋;王东生;李伟;.四方晶格光子晶体波导的高通滤波特性[J]红外与毫米波学报.2006,(03)
[2]史俊锋,惠梅,王东生,毛文炜.光谱仪的微型化及其应用[J]光学技术.2003,(01)
[3]史俊锋,张光国,王东生.任意三维表面微型光器件的灰度光刻技术[J]微纳电子技术.2004,(10)
[4]张光国,史俊锋,王东生.平面波导微型光谱仪系统芯片中Taper耦合结构的研究[J]光学技术.2004,(06)
[5]黄声野,史俊锋,王东生.填充率对有限高度二维光子晶体带隙的影响[J]光电子·激光.2004,(12)
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